[한스경제=고예인 기자] 삼성전자의 반도체 핵심 기술과 관련 엔지니어들을 중국에 유출한 혐의로 재판에 넘겨진 삼성전자 전직 부장이 1심에서 징역 7년을 선고받았다.

서울중앙지법 형사25부(부장판사 지귀연)는 19일 산업기술의 유출방지 및 보호에 관한 법률 위반 등 혐의로 기소된 전직 삼성전자 기술팀 부장 김모(57)씨에게 징역 7년과 벌금 2억원을 선고했다.

범행에 공모한 협력업체 전 부장 방모씨에게는 징역 2년6개월을 선고했다. 또 다른 협력업체 직원 3명 중 1명은 징역 1년6개월을 선고받고, 나머지 2명은 각각 징역 2년에 집행유예 3년, 징역 10개월에 집행유예 2년을 선고받고 사회봉사도 명령받았다.

실형을 선고받은 피고인 3명은 보석이 취소돼 이날 선고 후 법정 구속됐다.

재판부는 "건전한 경쟁을 심각히 저해하고 이를 만든 피해회사의 막대한 시간과 비용을 헛되게 할 뿐 아니라 실제로 대한민국 국가산업 경쟁력에 큰 악영향을 줄 수 있는 중대 범죄"라며 "피해회사의 손해가 결코 가볍지 않고, 특히 삼성전자가 입은 피해는 어마어마한 액수에 이를 것으로 쉽게 예상할 수 있다"고 밝혔다.

김씨는 국가 핵심기술인 삼성전자의 18나노 D램 반도체 공정 정보를 무단 유출하고 이를 중국 기업인 창신메모리테크놀로지(CXMT) 제품 개발에 사용하게 한 혐의 등을 받는다. 중국에 반도체 D램 제조의 핵심 장비인 ALD(원자층 증착) 장비 개발에 성공한 회사가 없다는 점을 노려 중국에 새로운 반도체 장비업체 A 법인을 설립했다. 앞서 국가정보원은 이들의 기술 유출 정황을 포착하고 검찰에 수사 의뢰를 했다.

검찰은 김씨가 2016년 신생 업체인 CXMT로 이직하면서 반도체 증착 관련 자료와 7개 핵심 공정 관련 기술 자료를 유출하고 수백억원대 금품을 수수한 것으로 파악했다. 이들은 최소 세후 5억원이 넘는 금액을 제시하며 삼성전자와 관계사의 기술 인력 20여명을 빼간 것으로 조사됐다.

김씨 외 직장을 그만둔 이들도 이직 전 취급 중인 핵심 기술자료를 외부로 빼돌렸는데, 이 자료들은 이후 ALD 제작에 사용한 것으로 조사됐다. 검찰이 파악한 유출 기술자료의 개발비용은 총합 736억원이다.

이들은 법적 이슈를 피하고자 A법인이 아닌 중국의 위장회사와 고용계약을 체결하고, 중국 현지 생활 시 실제 이름이 아닌 영문 가명을 사용하는 등 은밀하게 활동한 것으로 조사됐다.

검찰은 지난해 4월 김씨 등을 재판에 넘기며 중국 현지 법인도 양벌규정으로 함께 기소했다. 김씨가 이날 선고받은 징역 7년은 국내 기술 유출 범죄 사상 최대 형량이다.

고예인 기자 yi4111@sporbiz.co.kr